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细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。

氮化硅的制粉工艺及设备

  • 一种高纯高活性氮化硅粉体的制备工艺及热循环气氛炉pdf

    2024年3月23日  用该热循环气氛炉制备高纯高活性氮化硅粉的制备工艺。 达天线罩、核反应堆的支撑、隔离件和裂变物质的载体等广阔的市场前景。 氮化硅原料粉体 是制备氮化硅陶瓷制品 本文主要介绍碳热还原法制备氮化硅粉体的工艺流程。 该工艺具有简单、高效、环保等优点,能够制备出高纯度、高晶质度、微米级的氮化硅粉末,有助于推动氮化硅材料的发展和应用。氮化硅粉体 碳热还原法制备工艺流程百度文库简单来说,氮化硅就是硅和氮的化合物,特别耐高温,硬度也不一般,跟钻石比起来也差不多。 这就让它成为了不少高科技产品的好材料。 好,话不多说,咱们直接进入生产工艺的世界,看 氮化硅生产工艺和相关设备百度文库本发明涉及一种氮化硅生产设备,特别是涉及一种高纯度氮化硅粉体生产工艺。 氮化硅具有良好的抗热冲击性、抗氧化性、耐高温、耐腐蚀、化学稳定性高、强度高等一系列优异的热物理性能,是一种优良的高温结构材料。 氮化硅反应炉是 高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法 X技术网2023年2月1日  3现有氮化硅的工业生产过程中,可将单质粉末置入氮化设备内,通过对单质硅的粉末进行渗氮处理的合成方法获得氮化硅粉末;然而采用该方式制造氮化硅,易于受到进入氮 一种氮化硅生产工艺及设备的制作方法 X技术网2023年3月22日  1本发明涉及氮化硅陶瓷材料制备技术领域,具体而言,涉及一种氮化硅粉体的制备装置及制备方法。 2氮化硅陶瓷是一种性能优异的高温结构陶瓷材料,具有机械强度高、自润滑、热稳定性好、化学性能稳定等特点,在冶 一种氮化硅粉体的制备装置及制备方法与流程

  • 氮化硅陶瓷基板的制备工艺流程介绍 知乎

    2025年1月18日  氮化硅陶瓷基板的制备工艺流程图 氮化硅作为基板材料具有非常明显的可靠性,采用氮化硅陶瓷基片制作的 AMB 陶瓷衬板 ,与第三代半导体衬底 SiC 晶体材料 的热膨胀 21制粉工艺对硅粉微观结构的影响 化学成分符合要求的金属硅在炼制过程中已获得最佳微观结构,从而保证其拥有参与合成反应的最佳活性。制粉时一定尽量要降低对其微观结构的劣化作用,减少晶粒及晶粒群间的变形,使绝大部分硅粉保持原有的微观结构,以保持或提高其活性。金属硅制粉使用的各设备特点对比百度文库2022年11月23日  1本发明涉及一种工艺技术及设备,具体是一种氮化硅吸波材料的生产工艺及设备。背景技术: 2隐身材料对提高武器装备的生存和防御能力具有重要意义。 氮化物材料由于其自身优异的物理化学性能,有望成为一种新型 一种氮化硅吸波材料的生产工艺及设备的制作方法氮化硅是一种无机物,化学式为Si 3 N 4。它是一种重要的 结构陶瓷 材料,硬度大,本身具有润滑性,并且 耐磨 损,为 原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗 冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于 氮化硅陶瓷 具有如此优异的特性,人们常常利用它 氮化硅 百度百科氮化硅的制备性质及应用【共18张PPT】坩埚升热管脱硫喷嘴1212其他领域1313其他领域1414其他领域化学复分解法原位合成法卤化硅氨解法制备前驱体法3 Si(s) + 2 N2(g) → Si3N4(s)一般燃烧合成Si3N4 的氮气压力低限是3MPa, 但有时高达100MPa以上。将硅氮化硅的制备性质及应用【共18张PPT】百度文库2024年11月13日  1 氮化硅薄膜的制备方法综述A 化学气相沉积 (CVD) 技术 化学气相沉积(CVD)是一种基于气态前驱体反应的薄膜沉积方法。CVD 技术能够实现高质量氮化硅薄膜的制备,是当前微电子和光电子器件中常用的制备方法之一氮化硅薄膜制备的关键突破:方法比较、工艺优化与结构控制

  • 氮化硅陶瓷基板的制备工艺流程介绍

    2025年1月18日  氮化硅作为基板材料具有非常明显的可靠性,采用氮化硅陶瓷基片制作的 AMB 陶瓷衬板,与第三代半导体衬底 SiC 晶体材料的热膨胀系数更为接近,匹配更稳定,高导热率、高力学性能的氮化硅陶瓷基片正在逐渐成为宽禁带半导体器件首选的基板材料。氮化硅材料的性能、合成方法及进展22氮化硅粉体的制造方法要制得高性能的氮化硅陶瓷制品,一般说来首先要有高质量的氮化硅粉料。理想的氮化硅粉料应是高纯、超细、等轴、球形、松散不团聚的一次粒子。实际上,目前要获得较为理想的Si3N4粉料,还未根本解决。氮化硅材料的性能、合成方法及进展百度文库2024年8月27日  在整个生产过程中,质量控制是不可或缺的环节。从原料的选取、粉末制备、成型、烧结到加工,每一步都需要进行严格的质量检测和控制。通过采用先进的检测设备和科学的检测方法,确保每一个生产环节都达到既定的质量标准,从而最终生产出高品质的氮化硅陶瓷球轴承 氮化硅陶瓷球轴承滚动体的生产工艺,创新技术与优越性能 2011年11月2日  不很严格的氮化硅宜用si、si02作原料生产。因为液相和气相法原料成本高,设备 复杂;硅氮化法、二氧化硅还原氮化法作原料的产品价格相比较便宜,但纯度差,粉 也粗糙,通过精加工后也能达到高质量的氮化硅,但加工费用高,且性能的提高有一燃烧合成工艺制备氮化硅粉体及相组成影响因素的研究 豆丁网等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是目前较为理想和重要的氮化硅薄膜制备方法PECVD法工艺复杂,沉积过程的控制因素较多,沉积条件对介质薄膜的结构 与性能有直接的影响因此在PECVD淀积过程中必须对众多参数进行控制,因此,优化沉积条件是十分重要的 PECVD氮化硅薄膜的制备工艺及仿真研究 百度学术2023年11月16日  通过不同雾化技术的对比可以看出,组合雾化法是未来发展的重要方向,通过工艺调整,可制备出不同需求的金属粉末。以现有的制粉技术,通过不同的组合,可使制备出的粉末性能得到提升,例如超声技术和紧耦合技术 主流的几种金属粉末制备方法粉体资讯粉体圈

  • 氮化硅陶瓷的研究进展高技术陶瓷材料百度文库

    氮化硅的制备方法主要有反应烧结法(RS)、热压烧结法(HPS)、常压烧结法( PLS)和气压烧结法(GPS)等目前存在的主要问题是氮化硅陶瓷产品韧性低、成本较高。今后应改善制粉、成型和烧结工艺及氮化硅与碳化硅的复合化,研制出更加优良的氮化硅陶瓷。 4气压氮化硅粉末常用的6种制备方法由于源自文库粉的氮化是大量放热反应所以氮化硅可以利用自蔓延合成的方式来制备其生产设备和工艺都比较简单反应速度快以这种方式制备的氮化硅粉末纯度高烧结活性好氮化硅粉末常用的6种制备方法氮化硅粉体是氮化硅陶瓷及氮化硅粉末常用的6种制备方法百度文库氮化硅的制备性质及应用标准版PPT时也给生产带来了安全隐患。从国内外氮化硅粉体的指标测试和试烧结果看来,国内最具代表性企业生产的 Si3N4 平均颗粒在 3 微米左右, 金属杂质含量较高, 难以达到合格产品要求, 而进口的粉体为 07 微米以下。氮化硅的制备性质及应用标准版PPT百度文库氮化硅的制备性质及应用PPT课件于对其合成工艺进行改进。1617前景21世纪氮化硅陶瓷将同金属、 有机高分子材料 继续为人类社会的进步、 科技的发展发挥更大 的作用。 氮化硅热电偶保护管坩埚升热管脱硫喷嘴1122其他领域1133其他领域11441其5 他 氮化硅的制备性质及应用PPT课件百度文库2024年3月23日  一种高纯高活性氮化硅粉体的制备工艺及热循环气氛炉pdf,本发明属于氮化硅粉末制备技术领域,具体了提供了一种热循环气氛炉,包括,支撑架、加热外壳、热循环气管、炉管、炉管转动电机。本发明是利用热循环气氛炉将旋转结构安置在连续窑炉中实现气氛环境下连续旋转烧结,可用于直接氮化 一种高纯高活性氮化硅粉体的制备工艺及热循环气氛炉pdf气压烧结法(GPS)气压烧结氮化硅在1~10MPa气压,2000℃左右温度下进行。高的氮气压抑制了氮化硅的高温分解。由于采用高温烧结,在添加较少烧结助剂情况下,也足以促进Si3N4晶粒生长,而获得密度大于99%的含有原位生长的长柱状晶粒高韧性陶瓷。氮化硅高温陶瓷的研究与应用进展百度文库

  • 氮化硅的制备、性质及应用百度文库

    采用高压合成工艺不仅因设备投资高而且增加了生产成本, 同 时也给生产带来了安全隐患。从国内外氮化硅粉体的指标测试和试烧结果看来, 国内最具代表性企业生产的 Si3N4 平均颗粒在 3 微米左右, 金属杂质含量较高, LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究探讨了氮化硅薄膜淀积过程中设备对颗粒污染的影响,对于日常维护、降低颗粒污染、提高产品良率起到积极作用。[参考文献] [1]简崇玺LPCVD制备氮化硅薄膜工艺[J]集成电路通讯,2008,26(2):1821LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究百度文库本发明涉及一种氮化硅生产设备,特别是涉及一种高纯度氮化硅粉体生产工艺。背景技术:氮化硅具有良好的抗热冲击性、抗氧化性、耐高温、耐腐蚀、化学稳定性高、强度高等一系列优异的热物理性能,是一种优良的高温结构材料。氮化硅 高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法 X技术网2氮化硅的材料的性能\合成方法、意义和进展 21氮化硅的性能和应用 氮化硅(Si3N4)是氮和硅的化合物。在自然界里,氮、硅都是极其普通的元素。氮是生命的基础,硅是无机世界的主角,这两种元素在我们生活的世界上无所不在,然而,至今人们还未发现自然界里存在这两种元素的化合 氮化硅材料的性能、合成方法及进展百度文库氮化硅陶瓷是一种新型的高温结构陶瓷,由于它具有优异的性能而在一些新的技术领域中得到高度重视,并对其进行了研究、开发和应用而氮化硅粉末是氮化硅陶瓷制品的原料,其质量优劣直接影响氮化硅陶瓷的性能因此本文通过改变宏观因素来探讨它们对燃烧产物相组成的影响及影响机理,这对 燃烧合成工艺制备氮化硅粉体及相组成影响因素的研究2006年1月14日  氮化硅的制备 方法主要有反应烧结法 (RS) 、热压烧结法 (HPS) 、常压烧结法 ( PLS)和气压烧结法 ( GPS)等 目前存在的主 要问题是氮化硅陶瓷产品韧性低 、成本较高 今后应改善制粉 、成型和烧结工艺及氮化硅与碳化硅的复合化 , 研制出更加优良的氮化硅陶瓷氮化硅陶瓷的研究进展 百度文库

  • 氮化硅的制备、性质及应用百度文库

    氮化硅的制备、性质及应用 一、氮化硅的制备 氮化硅(Si3N4)是一种高性能陶瓷材料,具有极高的硬度、耐热性、耐腐蚀性和机械强度。在高温、高压、化学侵蚀和磨损等环境中都能够保持稳定的性能,因此被广泛地应用于诸如机械制造、航空航天、电子、能源等领域。2024年9月12日  优异的耐磨性和高温稳定性,使其在多个行业中具有广泛应用前景。本文将深入探讨氮化硅陶瓷的烧结工艺 综上所述,氮化硅陶瓷的烧结工艺及 应用研究已经取得了显著进展。从热压烧结到微波烧结,各种烧结方法各具特色,满足了不同应用 氮化硅陶瓷的烧结工艺及其半导体应用进展2025年1月18日  氮化硅陶瓷基板的制备工艺 流程图 氮化硅作为基板材料具有非常明显的可靠性,采用氮化硅陶瓷基片制作的 对流延成型的坯体冲压裁切,形成氮化硅生坯片。所需设备 :冲压机 4、敷粉/喷粉 通过喷粉机在坯片表面敷上一层氮化硼粉。氮化硼 氮化硅陶瓷基板的制备工艺流程介绍 知乎2020年3月10日  作为粒状材料的氮化硅是很难加工的——不能把它加热到它的熔点1850°C 以上,因为超过这个温度氮化硅发生分解成硅和氮气。因此用传统的热压烧结技术是有问题的。把氮化硅粉末粘合起来可通过添加一些其他物质比如烧结助剂或粘合剂诱导 氮化硅合成方法及加工 知乎2025年2月7日  氮化硅( Si₃N₄)是一种极具应用潜力的材料,广泛应用于半导体、光学、MEMS(微机电系统)以及高温、高频等领域。 作为一种重要的无机陶瓷材料,氮化硅薄膜具有优异的机械强度、化学稳定性以及耐高温性能,因此在众多高精度、高性能的设备中都有着不可替代 氮化硅薄膜的制造工艺:从原材料到成品的全过程氮化硅薄膜 21制粉工艺对硅粉微观结构的影响 化学成分符合要求的金属硅在炼制过程中已获得最佳微观结构,从而保证其拥有参与合成反应的最佳活性。制粉时一定尽量要降低对其微观结构的劣化作用,减少晶粒及晶粒群间的变形,使绝大部分硅粉保持原有的微观结构,以保持或提高其活性。金属硅制粉使用的各设备特点对比百度文库

  • 一种氮化硅吸波材料的生产工艺及设备的制作方法

    2022年11月23日  1本发明涉及一种工艺技术及设备,具体是一种氮化硅吸波材料的生产工艺及设备。背景技术: 2隐身材料对提高武器装备的生存和防御能力具有重要意义。 氮化物材料由于其自身优异的物理化学性能,有望成为一种新型 氮化硅是一种无机物,化学式为Si 3 N 4。它是一种重要的 结构陶瓷 材料,硬度大,本身具有润滑性,并且 耐磨 损,为 原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗 冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于 氮化硅陶瓷 具有如此优异的特性,人们常常利用它 氮化硅 百度百科氮化硅的制备性质及应用【共18张PPT】坩埚升热管脱硫喷嘴1212其他领域1313其他领域1414其他领域化学复分解法原位合成法卤化硅氨解法制备前驱体法3 Si(s) + 2 N2(g) → Si3N4(s)一般燃烧合成Si3N4 的氮气压力低限是3MPa, 但有时高达100MPa以上。将硅氮化硅的制备性质及应用【共18张PPT】百度文库2024年11月13日  1 氮化硅薄膜的制备方法综述A 化学气相沉积 (CVD) 技术 化学气相沉积(CVD)是一种基于气态前驱体反应的薄膜沉积方法。CVD 技术能够实现高质量氮化硅薄膜的制备,是当前微电子和光电子器件中常用的制备方法之一氮化硅薄膜制备的关键突破:方法比较、工艺优化与结构控制2025年1月18日  氮化硅作为基板材料具有非常明显的可靠性,采用氮化硅陶瓷基片制作的 AMB 陶瓷衬板,与第三代半导体衬底 SiC 晶体材料的热膨胀系数更为接近,匹配更稳定,高导热率、高力学性能的氮化硅陶瓷基片正在逐渐成为宽禁带半导体器件首选的基板材料。氮化硅陶瓷基板的制备工艺流程介绍氮化硅材料的性能、合成方法及进展22氮化硅粉体的制造方法要制得高性能的氮化硅陶瓷制品,一般说来首先要有高质量的氮化硅粉料。理想的氮化硅粉料应是高纯、超细、等轴、球形、松散不团聚的一次粒子。实际上,目前要获得较为理想的Si3N4粉料,还未根本解决。氮化硅材料的性能、合成方法及进展百度文库

  • 氮化硅陶瓷球轴承滚动体的生产工艺,创新技术与优越性能

    2024年8月27日  在整个生产过程中,质量控制是不可或缺的环节。从原料的选取、粉末制备、成型、烧结到加工,每一步都需要进行严格的质量检测和控制。通过采用先进的检测设备和科学的检测方法,确保每一个生产环节都达到既定的质量标准,从而最终生产出高品质的氮化硅陶瓷球轴承 2011年11月2日  不很严格的氮化硅宜用si、si02作原料生产。因为液相和气相法原料成本高,设备 复杂;硅氮化法、二氧化硅还原氮化法作原料的产品价格相比较便宜,但纯度差,粉 也粗糙,通过精加工后也能达到高质量的氮化硅,但加工费用高,且性能的提高有一燃烧合成工艺制备氮化硅粉体及相组成影响因素的研究 豆丁网等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是目前较为理想和重要的氮化硅薄膜制备方法PECVD法工艺复杂,沉积过程的控制因素较多,沉积条件对介质薄膜的结构 与性能有直接的影响因此在PECVD淀积过程中必须对众多参数进行控制,因此,优化沉积条件是十分重要的 PECVD氮化硅薄膜的制备工艺及仿真研究 百度学术